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氧化铝抛光粉(VK-L30F)在蓝宝石衬底抛光中的利用

笔墨:[大][中][小] 手机页面二维码 2014/5/12     阅读次数:    
  今朝, 在蓝宝石的CMP 工艺中, 经常利用的磨料首要包含金刚石、二氧化硅溶胶、氧化铈和氧化铝等磨料。
  尝试数据标明,a-氧化铝抛光粉(VK-L30F,0.3um,球型)在蓝宝石抛光进程中的上风逐步较着。
  金刚石只用于传统的机器抛光,其硬度(莫氏10)比蓝宝石(莫氏9)硬度高,轻易发生划伤,蓝宝石外表毁伤度高,良率低。氧化铝(VK-L30F)的硬度与蓝宝石相称,颗粒球型,抛光速度高,良率高,是比拟抱负的抛光资料。而SiO2硬度(莫氏硬度7.5)比蓝宝石低,抛光速度比氧化铝抛光粉慢良多,抛光比拟耗时。
  在抛光C-立体蓝宝石衬底时,a-氧化铝抛光粉(VK-L30F,0.3um)制成的研磨液的抛光机能(去除速度和外表品质等)优于其余磨料,详细表现以下:
  1,构成的水化层增添,抛光进程中,在蓝宝石基底上延续构成水化层,它比基底层软,该层的构成有益于资料的去除,并发生高品质外表。
  2,外表品质改良,a-氧化铝与基底蓝宝石的硬度一样,是以,磨料划伤蓝宝石的能够性很小。
  3,去除速度增添,a-氧化铝磨料履历了与基底蓝宝石一样的外表水化,在基底宝石与磨料水化层之间的化学机器感化加快了资料去除,当磨料和基底蓝宝石的外表在抛光压力下靠在一路并剪切时,就彼此粘附,进一步的剪切就会使粒子扯开键合的水化层,经由进程粒子的前边沿增进资料去除。外表粗拙度能小于0.2nm.
  4,氧化铝抛光液在轮回进程中不变性更好,二氧化硅抛光液在利用进程中温度严酷节制,以避免结块,但氧化铝研磨液就比拟不变,也显现了很好的干净度。
  尝试1:接纳氧化铝抛光粉对蓝宝石衬底停止抛光,抛光液的pH为10时抛光结果好,外表粗拙度RMS可达0.2nm。抛光压力在0. 12Mpa 至0. 15Mpa,抛光液浓度为10%时较佳。浓度越高,抛光速度越快。
  今朝良多蓝宝石加工场正在评价并利用基于氧化铝研磨液用于更大直径晶圆抛光。
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